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ok12315木蟲 (職業(yè)作家)
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[求助]
求助電子束蒸鍍法沉積鉬薄膜的相關(guān)問題 已有1人參與
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我在電子束蒸鍍Mo薄膜時，發(fā)現(xiàn)沉積速率非常低，個人認(rèn)為可能是Mo熔點太高約2600攝氏度，但是蒸鍍過程中速率波動較大，例如，剛開始速率約1埃/秒，但是十分鐘過后速率就幾乎為零了，蒸鍍室內(nèi)靶材亮度也大幅度降低，而且進(jìn)一步增大燈絲電流無法加快蒸鍍速率，請問這是什么原因呢？求解 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |
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fyl1989
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- 專業(yè): 半導(dǎo)體晶體與薄膜材料
11樓2017-06-01 11:13:43
kangye_1989
木蟲 (著名寫手)
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- 專業(yè): 凝聚態(tài)物性 II ：電子結(jié)構(gòu)
2樓2017-01-17 08:14:05
ok12315
木蟲 (職業(yè)作家)
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- 注冊: 2012-02-28
- 專業(yè): 其他無機(jī)非金屬材料
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已經(jīng)檢查過了，聚焦沒問題，靶材在沉積初期可以被融化，但是也就十分鐘左右就明顯變暗了，我懷疑是被擊穿了，然后電子束直接轟擊hearth 底了，不知道如何解決 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |
3樓2017-01-17 08:30:03
4樓2017-01-17 15:52:57
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