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浮云總會(huì)有銀蟲 (著名寫手)
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[求助]
金屬輔助刻蝕硅片總是失敗
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大家好，最近本人在嘗試制備硅納米線，方法如下： （1）硅片清洗（DI H2O，乙醇，丙酮） （2）5% HF，90 s （3）0.02 M AgNO3/10% HF，60 s （4）10% HF：30% H2O2 （10：1， v%），8 min （5）35% HNO3，10 min 試了好多遍了，硅片表面沒有一點(diǎn)變化。硅片規(guī)格：p型，100 phase，1-5 Ω cm，單面拋光。每一步都很小心，不知道為什么。 AgNO3可能有點(diǎn)問題，在10% HF溶液中形成了大量沉淀，不知是不是因?yàn)锳g沒有在硅片表面覆蓋，所以才無法刻蝕的。 刻蝕結(jié)束后，硅片表面無任何變化，拋光的一面還是可以映出倒影來。 求有經(jīng)驗(yàn)的老師和同學(xué)指點(diǎn)迷津。 |
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QJiang
鐵桿木蟲 (著名寫手)
搞學(xué)術(shù)的帥比
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- 專業(yè): 半導(dǎo)體材料
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應(yīng)該是前三步的問題，并且催化劑Ag納米顆粒沒有負(fù)載上，第一步，清洗，可以試一下食人魚溶液；第二步，HF可以刻蝕時(shí)間長(zhǎng)些。如果生成Si-H,Ag離子會(huì)被立即還原的！ 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |
2樓2021-04-05 01:40:55
浮云總會(huì)有
銀蟲 (著名寫手)
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- 專業(yè): 無機(jī)材料化學(xué)
3樓2021-04-05 15:48:23
sty112: 屏蔽內(nèi)容, 違規(guī)存檔 2021-04-28 09:45:39
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本帖內(nèi)容被屏蔽 |
4樓2021-04-17 23:51:34
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