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hcswj木蟲 (小有名氣)
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[求助]
溶出伏安法鉍膜電極如何重復(fù)利用?
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想用鍍鉍膜的玻碳電極測一系列溶液中不同濃度的鎘離子,測試方法是方波伏安SWV,測的范圍是-1.3~-0.5V,這個范圍鉍膜應(yīng)該不會溶出。 有兩個問題: 1、先前富集上的Cd溶出一次會不會沒完全溶出?會不會影響下一個樣品的測量? 2、我在一些文獻(xiàn)上看到“將電位于-0.3V保持30s,使鉍膜電極得到活化,可使用同一電極進(jìn)行多次測定”,這是什么原理?具體的操作是怎樣?在什么溶液里?是不是重新鍍一次鉍膜的意思呢? 謝謝! |

鐵桿木蟲 (著名寫手)
鐵桿木蟲 (著名寫手)
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我做的是線性溶出伏安法,來回來你的問題。我做的時候把掃描電位范圍設(shè)為-1.3至0.5V,這樣鉍也會溶出來,然后每個濃度測完以后,我把它放在恒電位清洗,恒電位0.5V 50s。這樣清洗完了以后,工作電極可以重復(fù)使用,十次反復(fù)溶出反復(fù)測定之后,ip的相對標(biāo)準(zhǔn)偏差為2.37%小于5%.因為先前富集的cd也只是溶液中特小的一部分,所以cd應(yīng)該會溶出完全。如果不放心,就可以按我說的,測完之后把它放在恒電位下溶出清洗一下即可。 第二個問題,就是因為我先前的步驟中已經(jīng)把鉍也溶出了,在-0.3V保持30s之后,鉍膜又會重現(xiàn)鍍上去。 |
木蟲 (小有名氣)
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非常感謝!但還有一點不明白:我?guī)熃阒白龅腻冦G膜是在-1.0V,富集Cd是在-1.2V,我看其它文獻(xiàn)里鍍鉍膜是在-0.3V,這個差太遠(yuǎn)了。如果我還在-1.0V重新鍍鉍膜,會不會也有可能把Cd重新給富集上去?這個到底怎么確定呢? |

鐵桿木蟲 (著名寫手)
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