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電沉積 氯鉑酸 氯金酸 CV it 已有8人參與
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GCE 4mm 1%氯金酸/氯鉑酸 左圖:it 兩次相同條件 沉積金納米顆粒 右圖:CV 測(cè)試pt 的還原電位 請(qǐng)教~ 為什么左圖 兩次圖像差別這么大 實(shí)驗(yàn)條件相同 為什么右圖 Pt 有這么多氧化還原峰 什么原因 或者有什么意義 請(qǐng)大神賜教~( ̄▽?zhuān)?~ 感激不盡~( ̄▽?zhuān)?~ 發(fā)自小木蟲(chóng)Android客戶(hù)端 |
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電沉積,我理解的是電鍍,電鍍對(duì)鍍層質(zhì)量等都有一定要求,霍爾槽試驗(yàn)可以得到較佳的沉積電流范圍,對(duì)于cv法進(jìn)行動(dòng)態(tài)的電位掃描,如何能沉積一個(gè)有質(zhì)量有性能的鍍層,還望賜教,我可能多年不接觸電化學(xué)測(cè)試技術(shù),知識(shí)已經(jīng)落伍,非常感謝 發(fā)自小木蟲(chóng)Android客戶(hù)端 |

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