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狂歌戰(zhàn)戟鐵蟲 (小有名氣)
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[求助]
請問前輩,光催化降解的真正機理? 已有2人參與
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兩個問題: (1)以二氧化鈦為例,在紫外光激發(fā)下產(chǎn)生光生空穴和電子,然后電子和空穴將水和氧等氧化或還原為羥基自由基或超氧自由基。我想問的是有機污染物是全部被自由基降解還是同時被自由基和電子空穴氧化還原降解?如果二者同時發(fā)揮作用的話,具體比例為多少? (2)tio2摻雜元素后形成摻雜能級,帶隙變短,吸收波長紅移,同時氧化還原電位會降低,所產(chǎn)生的電子空穴對是否還有足夠的能力產(chǎn)生羥基自由基去降解有機物? 懇請大神指點一二! |
至尊木蟲 (著名寫手)
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1. 有機污染物可以直接和空穴反應,不過得看有機污染物的吸附量和氧化還原電位。日本的Tada教授有篇和空穴的直接反應與間接反應的論文,你可以去查一下看看。 2. 摻雜,帶隙變短,有兩種可能,一種價帶升高,一種導帶降低。導帶降低的話和空穴沒關系,價帶升高的話,得看升的多高。太高不能產(chǎn)生羥基自由基去降解有機物。 |
榮譽版主 (文學泰斗)
Stay Hungry. Stay Foolish.
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專家經(jīng)驗: +201 |

鐵蟲 (小有名氣)
送紅花一朵 |
謝謝您,發(fā)帖好久了,只有您一個人回復,不過這些問題仍在困擾著我,銳鈦礦帶隙3.2v,金紅石3.0v,而活性羥基自由基電位是2.8v,如果二氧化鈦帶隙縮小后,會不會無足夠的能力去生成羥基自由基呢 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |
鐵蟲 (小有名氣)
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