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關(guān)于XRD衍射峰強(qiáng)度與晶體取向生長(zhǎng)的關(guān)系的理論依據(jù) 標(biāo)題長(zhǎng)一點(diǎn)~~~~~~~~~~~~~~
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研究材料的同志們應(yīng)該都知道對(duì)于一個(gè)樣品(納米,微米級(jí)的粉末與同尺寸尺度下的薄膜樣品)中不同衍射峰與標(biāo)準(zhǔn)卡片的相對(duì)強(qiáng)度比較可以用來(lái)推測(cè)晶粒的擇優(yōu)取向方向,但是很久以來(lái),自己心里一直有幾個(gè)疑問(wèn),想請(qǐng)各位大蝦們指教一下,謝謝哈! 1 什么是擇優(yōu)取向? 有沒(méi)有一個(gè)準(zhǔn)確定義呢,比如說(shuō),垂直于衍射峰所對(duì)應(yīng)的晶面方向的生長(zhǎng)得到優(yōu)先生長(zhǎng),((001)對(duì)應(yīng)衍射峰強(qiáng)度相對(duì)升高,說(shuō)明延[001]方向有取向生長(zhǎng))是這樣的定義嗎?有沒(méi)有理論依據(jù)呢? 2 若上述1中定義成立,那么某個(gè)衍射峰相對(duì)強(qiáng)度異常升高一定會(huì)得到擇優(yōu)取向的現(xiàn)象嗎? 從理論上來(lái)講,衍射峰強(qiáng)度升高,說(shuō)明衍射儀再該衍射峰所在2theta角度,即掃描該角度對(duì)應(yīng)晶面間距時(shí)收到的信號(hào)變強(qiáng),也就是該樣品在晶面間距發(fā)出的信號(hào)增多。 簡(jiǎn)單說(shuō),就是樣品中可以測(cè)得的這個(gè)晶面變多了。 這里,我有個(gè)不太懂的地方,也就是晶面變多是不是有兩種可能的,一種可能是晶面的堆積,也就是垂直于晶面方向的取向生長(zhǎng)會(huì)引起上述變化,也就是1中所提到的擇優(yōu)取向(前提是1中定義無(wú)誤),比如棒狀或者絲狀一維生長(zhǎng)的結(jié)構(gòu);二種則是在平行于該晶面方向有著優(yōu)勢(shì)生長(zhǎng),比如盤狀,片狀二維生長(zhǎng)結(jié)構(gòu)。 敢問(wèn)各位大蝦這兩種情況是不是都可以引起衍射峰強(qiáng)度升高的? 實(shí)驗(yàn)室里大家對(duì)這個(gè)概念往往都是普遍認(rèn)同前一種,也是論壇里經(jīng)常說(shuō)到的情況,但是我自己一直不能完全接受,但是又不愿意與老板討論,所以到這里問(wèn)問(wèn)大家,請(qǐng)問(wèn)有沒(méi)有準(zhǔn)確的解釋的? |
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嚴(yán)格來(lái)說(shuō),對(duì)納米以及微米材料(這里特指一次顆粒呈單分散狀態(tài)或者是一次顆粒呈一定團(tuán)聚狀態(tài)的材料,但是并不像普通的多晶金屬或者陶瓷材料那樣是緊密的多晶聚集體),用擇優(yōu)取向這個(gè)說(shuō)法來(lái)描述是不太準(zhǔn)確的。 擇優(yōu)取向一般指:在一般多晶體中,每個(gè)晶粒有不同于鄰晶的結(jié)晶學(xué)取向,從整體看,所有晶粒的取向是任意分布的;某些情況下,晶體的晶粒在不同程度上圍繞某些特殊的取向排列,就稱為擇優(yōu)取向或簡(jiǎn)稱織構(gòu)。(摘自互動(dòng)百科) 擇優(yōu)取向(我個(gè)人更愿意用“織構(gòu)”這個(gè)說(shuō)法)多見于金材領(lǐng)域,金屬材料一般都是多晶體,而且晶粒較大,在冷加工或者熱處理的時(shí)候容易使得金屬多晶體中晶粒方位出現(xiàn)一定程度的有序化。這是通常定義下的擇優(yōu)取向的理解。 現(xiàn)在常見的納米和微米材料的聚集狀態(tài)和傳統(tǒng)的金屬多晶體的聚集狀態(tài)不一樣,所以我覺得直接套用“擇優(yōu)取向”這個(gè)說(shuō)法,其實(shí)不甚準(zhǔn)確,但是單從“晶粒方位出現(xiàn)一定程度的有序化”這個(gè)意義來(lái)考慮,是有其實(shí)際意義的。除非是燒結(jié)等方法制備出來(lái)的納米&微米材料(一次顆粒一般是球狀的),用溶劑熱、外延生長(zhǎng)等等方法制備得到的材料一般都具有一定的優(yōu)勢(shì)晶面和幾何外形,如果其幾何外形在某兩個(gè)維度上比較大(微米級(jí)),而在余下一個(gè)維度上比較。{米級(jí)),那么即使材料是經(jīng)過(guò)研磨再填充到XRD樣品臺(tái)上,由于自身幾何尺寸的特異性,其單晶體晶面取向分布狀況也不可能和常規(guī)顆粒狀標(biāo)準(zhǔn)樣品的分布一致,所以得到的XRD譜必然會(huì)和標(biāo)準(zhǔn)譜有區(qū)別(片狀單晶和球狀單晶的晶面取向分布狀態(tài)當(dāng)然不可能完全一致)。在這個(gè)基礎(chǔ)上如果我們知道了其優(yōu)勢(shì)面所在,通過(guò)一定的技術(shù)手段我們可以影響這種晶面取向的分布,使得XRD譜的某些峰進(jìn)一步增強(qiáng),另一些峰減弱,這時(shí)候就可以說(shuō)“利用XRD譜判斷擇優(yōu)取向”了。實(shí)際上,由于影響XRD譜的因素很多,儀器、制樣、樣品狀態(tài)、材料本征結(jié)構(gòu)等等都會(huì)在XRD譜上有所反應(yīng),所以只有材料本身的特異性足夠大的時(shí)候(比如優(yōu)勢(shì)面有幾百個(gè)微米大,但是厚度上只有幾十個(gè)納米的單晶片狀材料),XRD譜的結(jié)果才比較好判斷,對(duì)納米材料來(lái)說(shuō),XRD結(jié)果只是一個(gè)輔助判斷,真正還是得靠SAD來(lái)判斷晶體取向。 所以,我認(rèn)為擇優(yōu)取向這個(gè)說(shuō)法不太準(zhǔn)確,說(shuō)利用XRD結(jié)果來(lái)判斷晶體優(yōu)勢(shì)面倒是有一定意義。 我不做薄膜,所以這里的討論只涉及微米和納米材料,薄膜的XRD什么的不懂哈,說(shuō)錯(cuò)了請(qǐng)狠拍! |
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