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LAnza_lw銀蟲 (小有名氣)
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[求助]
磁控濺射鍍膜膜厚測量方法討論 已有1人參與
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目前主要從事中頻反應(yīng)濺射，需要在2D或3D面（光滑/粗糙）上鍍裝飾膜；測量膜厚的方法主要是：球磨>金相顯微鏡測截面>SEM,膜厚分布1~4μm；球磨法較快，但是測量誤差很大（0~0.5μm）；金相鏡須制樣且同樣受測試員操作影響，而且研磨面令人發(fā)指；SEM耗時長（24H有報告），也苦于表面制備垃圾、成本。請問有沒有其他可以精準測量膜厚(誤差不超過0.1μm)，用時短（<3h）的方法呢？晶振片適用于磁控濺射嗎？請指教，謝謝 |
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 磁控濺射鍍膜工藝 |
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LAnza_lw
銀蟲 (小有名氣)
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7樓2018-05-22 08:03:58
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2樓2018-05-21 18:41:10
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3樓2018-05-21 18:50:08
jackyang1995
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4樓2018-05-21 19:15:19
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