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fzu_pv新蟲 (小有名氣)
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[求助]
電化學(xué)工作站的脈沖電壓參數(shù)如何設(shè)置 已有1人參與
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各位高手，請問下我想采用CHI660B的脈沖電壓方法來沉積薄膜，希望產(chǎn)生的電壓波形如附件所示， 是應(yīng)該采用Differential Pulse Voltammetry（參數(shù)Init E (V) 、Final E (V)、Incr E (V)、Amplitude (V)、Pulse Width (sec)、 Sampling Width (sec)、Pulse Period (sec)、Quiet Time (sec)、Sensitivity (A/V)）還是Normal Pulse Voltammetry（參數(shù)Init E (V)、 Final E (V) 、Incr E (V)、Pulse Width (sec) 、Sampling Width (sec)、Pulse Period (sec)、Quiet Time (sec)、Sensitivity (A/V)）， 里面各個參數(shù)應(yīng)該如何設(shè)置呢？ 因為是新手，所以不懂的太多，還請高手多多賜教，多謝多謝阿！ 脈沖電壓.JPG |
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gxytju2008
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2013-12-17 13:47:14, 1.41 M
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wyddyt7樓2013-12-17 13:48:29
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4樓2013-12-17 13:35:57
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