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霜雪淚新蟲 (小有名氣)
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[求助]
磁控濺射硅薄膜鍍不上 已有2人參與
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小弟研一 剛開始著手磁控濺射設(shè)備，鍍硅薄膜。失敗率很高，總是鍍不上。起初用100W，0.6pa參數(shù)濺射。銅箔基底表面有一層泛黃的膜，使用拉曼檢測(cè)發(fā)現(xiàn)不是非晶硅。后來調(diào)整參數(shù)，用150W，0.6pa參數(shù)鍍膜,改變了氬氣流量，發(fā)現(xiàn)只有大于30sccm時(shí)才能鍍上一層偏黑的膜，拉曼還未測(cè)過，性能不穩(wěn)定。最近換了根氬氣的通氣管，出現(xiàn)以下問題：1，移動(dòng)擋板擋住樣品臺(tái)進(jìn)行預(yù)濺射時(shí)，硅靶中心出現(xiàn)貌似彩環(huán)的痕跡。2 ，移開擋板正式濺射時(shí)，中心彩環(huán)逐漸消失，整個(gè)靶顏色趨于一致。3，靶材部分邊緣濺射時(shí)在整個(gè)輝光中顯示出陰影，取下來后靶材邊緣有咖啡色燒蝕痕跡 且出現(xiàn)裂縫。4，鍍膜后，基底顏色基本沒有改變，感覺沒鍍上或鍍得很薄。鍍膜時(shí)間都是1小時(shí)。圖示為輝光顏色。感覺靶材周圍的輝光是正常的硅的輝光，偏紫色。但是靶材之下的光有些泛紅。最近反射功率也不是很穩(wěn)，勉強(qiáng)能調(diào)至最低。 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
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8樓2017-06-14 12:32:54
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2樓2017-06-14 06:47:32
霜雪淚
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3樓2017-06-14 07:25:44
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4樓2017-06-14 08:00:35
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