這個應(yīng)該從幾個nm可以一直長到你需要的厚度吧，只要你不停，膜就會一直長啊

氮化硅薄膜厚度一般在1微米以下，再厚的話就沒有什么應(yīng)用價值了

鉑悅公司主要負(fù)責(zé)PROTOFLEX量子效率、IV測試及真空鍍膜、沉積處理系統(tǒng)及太陽能中試線等全線產(chǎn)品在中國區(qū)的獨家銷售并售后服務(wù)支持
美國ProtoFlex是一家專注于生產(chǎn)中小型薄膜沉積設(shè)備及測量設(shè)備的美國公司。其創(chuàng)辦人及公司技術(shù)總監(jiān)Pawan Bhat博士有超過25年的薄膜測試經(jīng)驗，跨越了薄膜電池存儲，可再生能源系統(tǒng)，光存儲材料和真空制程等應(yīng)用
　　美國ProtoFlex公司PECVD(等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量SiO2、Si3N4、非晶硅、碳化硅、太陽能材料、金剛石、類金剛石薄膜、硬質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等多種薄膜材料以及炭納米管(CNT)等�？蛇x用射頻(RF)、空陰極高密度等離子體(HCD)源、感應(yīng)耦合等離子體(ICP)源。該公司采用先進(jìn)技術(shù)和穩(wěn)定可靠的設(shè)計為您提供多方位的服務(wù)，

在氮化硅生長方面，LPCVD與PECVD有何區(qū)別，如在薄膜質(zhì)量方面來講。為何在濕法刻蝕中，用作保護(hù)層的氮化硅都用LPCVD生長，而不用PECVD，用PECVD生長的氮化鋁能不能被用來做保護(hù)層？