拋光的硅片是否要去機(jī)械損傷層
想求教一下拋光的硅片在清洗時(shí)是否要去機(jī)械損傷層？
我們上一次用20%的NaOH85℃恒溫五分鐘去機(jī)械損傷層，發(fā)現(xiàn)硅片上竟然有一些白色的東西，用鹽酸和硝酸都去不掉。請問有辦法解決嗎？非常感謝！
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京公網(wǎng)安備 11010802022153號
拋光硅片本身就沒有損傷層的。在硅片拋光以前，有一道工序就是腐蝕，其目的就是去除硅片表面受加工應(yīng)力而形成的損傷層。腐蝕有酸性腐蝕和堿性腐蝕兩種，