直流等離子體濺射制備金屬膜
基片與靶材之間距離為什么要合適，為什么不能過近，近了的話，通過控制濺射時(shí)間來(lái)處理膜的厚度不行么，會(huì)造成不良影響么？？
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京公網(wǎng)安備 11010802022153號(hào)
基片與靶材之間距離太近時(shí)，離子對(duì)基片表面的轟擊可以損壞膜層，太遠(yuǎn)則偏離了最佳濺射距離制備的膜層結(jié)合力差（因?yàn)殡x子超過平均自由程會(huì)通過碰撞損失能量），