求助一下小木蟲上的朋友：
    我的實驗?zāi)康氖沁@樣的，將濺射在硅基底表面的一層鈦膜（鈦膜厚度為500nm）放在80°C的H2O2溶液（H2O2溶液的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為15%）中反應(yīng)，使鈦膜氧化成TiO2的膜。
    我的實驗遇到的問題是這樣的，如果直接將濺射完的鈦膜和80°C的H2O2反應(yīng)，實驗很難進行。只有使鈦膜的表面有略微的粗糙化才能和H2O2發(fā)生氧化反應(yīng)。
    我之前對鈦膜進行過酸化處理來使其表面粗糙化。用稀釋50倍和100倍的HF（HF的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為49%），腐蝕的時間是1秒。但是稀釋后的HF腐蝕速度非�？�，腐蝕的速率也不容易控制。而且濺射上的鈦膜很�。ㄢ伳ず穸葹�500nm），這樣就更增加了腐蝕的困難。
    文獻(xiàn)上有用HF和硝酸的混酸來使鈦片的表面粗糙化的，但是硝酸對硅片是有腐蝕的，所以這個方法也不適用我這個實驗。
    請有這方面經(jīng)驗的老師和同學(xué)賜教。謝謝。 返回小木蟲查看更多