磁控濺射硅基鋁膜退火有黑點(diǎn)，求去除黑點(diǎn)辦法
磁控濺射在硅基上鍍鋁膜，400度氮?dú)猸h(huán)境退火后，總是有黑點(diǎn)析出，懷疑黑點(diǎn)是硅，有什么辦法可以去除或者避免黑點(diǎn)嗎？鍍厚點(diǎn)也會(huì)有析出
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京公網(wǎng)安備 11010802022153號(hào)
確定不是生成了氮化鋁？
400°C的話(huà)，應(yīng)該是硅，因?yàn)橥嘶饡r(shí)硅會(huì)融到鋁里，冷卻的時(shí)候就析出。一般的做法是在鋁和硅之間加阻擋層，但是如果你要做的是歐姆接觸，就需要特殊的低歐姆接觸阻擋層，比如鈦或者氮化鈦之類(lèi)的，
EDS 分析一下唄 再請(qǐng)問(wèn)下，你們可以在鋁片上可以 濺射多晶硅層嗎？，