求助！鈦合金箔片腐蝕拋光的問(wèn)題~
TC4箔片是用于濺射薄膜的，面積有半個(gè)手掌大，所以選擇腐蝕拋光。
如圖，是在kroll液（2%HF,4%HNO,94%水）中腐蝕30s的前后對(duì)比圖，右邊是腐蝕后的。
表面發(fā)白更模糊了怎么辦，感覺(jué)氧化物比腐蝕前更多了？有經(jīng)驗(yàn)的同學(xué)能否解答下拋光成功的該什么樣子的？對(duì)于TC4腐蝕拋光過(guò)程需要在真空箱里操作嗎？有更好的去除表面氧化物的方法嗎？
第一次做濺射薄膜，沒(méi)有經(jīng)驗(yàn)期望大家能提供寶貴的意見(jiàn)，十分感謝��！
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圖片沒(méi)看到，為什么要濕法拋光��？濺射的膜不是本來(lái)就很好么？是襯底差？
，
CMP試試？