濺射陶瓷薄膜，陶瓷靶材致密度是不是越高好？
我用了99.99的氧化鋁靶材濺射薄膜，靶材密度估算是3.6；可惜沒有濺射下來。
尋找原因：
1、背板與靶材的有沾牢固。
2、功率最大用到200W。
3、百分之十的氧氬混合氣。
4、基臺500攝氏度。
5、靶材開裂，靶材厚度1.5mm
突發(fā)想法，靶材致密度越高，會不會影響濺射？
請大家提提意見，
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京公網(wǎng)安備 11010802022153號
一般是綁定結(jié)合不好導(dǎo)致靶材表面熱量不能快速導(dǎo)出，濺射過程不能順利進行。
如果有射頻電源，建議濺射期間，打開射頻電源；純鋁濺射，有時因氧化問題而產(chǎn)生靶中毒，都會導(dǎo)致靶材發(fā)紅甚至開裂，關(guān)鍵有時候根本不起輝。做氧化鋁陶瓷膜為啥不考慮做反應(yīng)鍍膜，純鋁靶材+氧氣？
反應(yīng)鍍膜方法是挺好的，但是做致密的薄膜工藝難度大，反而沒有CVD做的好。
現(xiàn)在我們想用氧化鋁靶材直接濺射，用射頻在將氧化鋁濺射下來，在實驗過程中，發(fā)現(xiàn)靶材厚度、靶材密度都對濺射有影響，所謂我才問其中的原因。
我詢問的3家靶材制造商，都是標(biāo)記致密度大于等于80
，
1、靶材密度導(dǎo)致濺射不起輝原因？
2、材料商都標(biāo)記致密度大于等于80，實在規(guī)避風(fēng)險？還是氧化物靶材濺射有通性？
我們已經(jīng)濺射下來了，但是靶材的致密度在78左右。我們用的致密度95的氧化鋁靶材，一直濺射不下來，這是什么原因？