氧化鋁介電層被后續(xù)工藝中的顯影液腐蝕
鍍了一層50nm的氧化鋁薄膜作為場(chǎng)效應(yīng)管的柵極介質(zhì)，后續(xù)工藝中通過(guò)光刻制備電極。選用EPG535正膠，顯影液為0.5%NaOH或2.38%TMAH，都發(fā)現(xiàn)這層氧化鋁被腐蝕了（紫外光刻顯影液基本都是強(qiáng)堿性的），有蟲(chóng)子遇到過(guò)這種情況嗎？如何避免呢，謝謝！
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如果一定要這么做換負(fù)膠試試，顯影液兼容就可以
請(qǐng)問(wèn)有推薦的膠嗎？我這有AZ5214反轉(zhuǎn)膠，可用作負(fù)膠，但顯影液也是堿性的。氧化鋁主要是被堿性顯影液腐蝕
你確定是氧化鋁？
是的呀，一般用氧化鋁或者二氧化硅
一般正膠顯影液都是強(qiáng)堿性的，會(huì)與氧化鋁和二氧化硅反應(yīng)的；Al₂O₃ + 2NaOH = 2NaAlO₂ + H₂O
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