光刻前硅片清洗
請問光刻前硅片如何清洗，有看到同學(xué)說用丙酮??乙醇??異丙醇，超聲清洗的，也有說用RCA工藝清洗的，還有同學(xué)說用氫氟酸清洗的，有沒有老師或同學(xué)能說一下，到底哪一種好呀，第一次做，一點(diǎn)經(jīng)驗(yàn)也沒有，另外書里面說硅片涂光刻膠前要涂底膠，這個(gè)不涂問題大嗎，因?yàn)镠MDS好像劇毒
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有些光刻膠不需要涂底膠，也看你做什么
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就算你是做器件，一般硫酸雙氧水3:1煮沸就可足夠滿足使用需求 了。我們以前直接新的硅片放等離子清洗適當(dāng)功率1分鐘左右，直接涂膠就可以，很牢固的，
涂膠前保證有機(jī)清洗即可，另外需要熱處理脫水，HMDS是默認(rèn)操作，增加粘附力，沒什么講究
具體看你做什么應(yīng)用吧。硅片涂膠前還可以用等離子氣清洗，紫外臭氧清洗設(shè)備等進(jìn)行清洗。
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