Su-8 紫外光刻
厚度70μm，
問(wèn)題1旋涂過(guò)程中總有小泡；
問(wèn)題2前烘中從65℃到95℃，硅片一直待在基底上還是，65°C完成后，移出，待95℃再放上去；
問(wèn)題3曝光劑量指的是在哪一波長(zhǎng)下的；
問(wèn)題4在曝光后放在加熱板的一瞬間，光刻膠出現(xiàn)褶皺，什么原因?qū)е碌模?br />
問(wèn)題5 最終70μm的膠只出來(lái)了10μm左右的坑，原因是因?yàn)檫^(guò)度曝光加基底衍射嗎
感謝各路神仙不吝賜教
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京公網(wǎng)安備 11010802022153號(hào)
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問(wèn)題1：厚度較厚，滴膠不均勻或者膠中有雜質(zhì)都有可能造成。
問(wèn)題2：從65度放上去，等到95度拿出。不過(guò)一般光刻膠前烘都是恒定溫度和時(shí)間的，你這種方式比較少見(jiàn)。
問(wèn)題3：這個(gè)去問(wèn)光刻膠廠家。
問(wèn)題4：結(jié)合問(wèn)題1你先確認(rèn)下膠有沒(méi)有問(wèn)題，而且光刻膠中間有氣泡的話肯定一加熱就裂了。
問(wèn)題5：70um只被曝掉10um的話，應(yīng)該是曝光時(shí)間不夠，基底衍射一般會(huì)殘留一些，但你這殘留的也太多了。
先檢查下膠吧，確定沒(méi)問(wèn)題再一步步改善，多咨詢光刻膠廠家，廠家一般會(huì)有固定參數(shù)，