使用202負(fù)膠后鍍Cr的lift-off工藝中Cr兩側(cè)長(zhǎng)墻大家有遇到過(guò)嗎？有解決方法嗎？
在硅片基底上用正膠+lor（1um）做的光刻，線寬10um，然后鍍100nm的Cr剝離，用SEM觀測(cè)發(fā)現(xiàn)所鍍Cr兩邊的側(cè)壁長(zhǎng)出了一道墻，像是延光刻膠長(zhǎng)出來(lái)，不知道有沒(méi)有解決方法。
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這個(gè)不是很普通的剝離工藝么？還至于用到雙層膠？
大線寬可以用負(fù)膠解決，小線寬只能用這種工藝。大線寬有這類問(wèn)題現(xiàn)在小線寬也不敢做了
，
好吧，你想要小線寬是多�。�10u隨便做啊
10um線寬已經(jīng)夠大的了，直接單層正膠就可以了