單晶硅濕法刻蝕線寬
請(qǐng)教：用2um正膠光刻出0.5mm的圓圖形，濕法刻蝕硅納米線，圖形內(nèi)刻不出來(lái)，發(fā)白或發(fā)黃，正常是黑色的，圓形尺寸1mm以上同樣的工藝可以刻出來(lái)。是 光刻膠太厚了？怎么選擇光刻膠，還是刻蝕方法不對(duì)？
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京公網(wǎng)安備 11010802022153號(hào)
說(shuō)實(shí)話我沒(méi)看明白
就是一般用金屬輔助刻蝕硅納米線，普通的沒(méi)有pattern圖形的硅片或者有大尺寸圖形（刻蝕暴露部分）的可以刻蝕出來(lái)，刻蝕部分面積越小越難刻
無(wú)標(biāo)題.jpg
，
為什么反復(fù)提到硅納米線啊，0.5MM那么大也叫納米線嘛
可以用干法直接刻蝕的啊，刻蝕深度大概多深呢
不選擇光刻膠，選擇什么？’
一般來(lái)說(shuō)，硅片刻蝕后表面的顏色和微結(jié)構(gòu)有關(guān)，制備出納米線通常是黑色（限光的原因），如果不是納米線而是一些小結(jié)構(gòu)，則會(huì)呈現(xiàn)出黃色/白色，想問(wèn)下LZ是用的什么濕法刻蝕手段？按道理圖案化區(qū)域曝光出來(lái)以后，不會(huì)對(duì)刻蝕有影響，應(yīng)該是刻蝕方法的問(wèn)題。