關(guān)于席夫堿還原問題
目前使用四氫呋喃為溶劑，硼氫化鈉還原亞胺，反應(yīng)很好，但是發(fā)現(xiàn)底物本身的二聚雜質(zhì)（亞胺還原處）會(huì)忽大忽小，不知道從哪里進(jìn)行條件控制，有沒有做過的小伙伴幫忙看一下，如何避免該雜質(zhì)的產(chǎn)生，多謝！
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1.你的二聚雜質(zhì)是原料自己帶過去的還是在反應(yīng)的過程中產(chǎn)生的
2.如果是反應(yīng)過程中產(chǎn)生的，反應(yīng)的濃度和反應(yīng)的溫度，以及你加入硼氫化鈉的方式是一次性加料還是分批控溫加料，從這幾個(gè)方面考察一下
可以試一下氰基硼氫化鈉多批次加料還原
底物和產(chǎn)物在THF中溶解嗎？可以考慮增加溶解量，降低底物濃度來控制。
我們這個(gè)底物在THF中溶解性可以，不過產(chǎn)物溶解性會(huì)差一些，目前溶劑量已經(jīng)很大了，大概55倍體積量，再繼續(xù)放大的話生產(chǎn)上應(yīng)該難以承受了，包括成本等
，
底物能反應(yīng)完嗎？試試增加還原劑用量