用的TiN靶，射頻磁控濺射，純氬氣，壓強在3—4Pa，功率從50—100W都有嘗試。能起輝，輝光紫紅色，但是總是沉積不上，硅片上無任何東西，樣品托盤也無變化。濺射后靶材略有發(fā)黑。有時候功率高了靶材會發(fā)燙。請各位大佬指點一下，可能有哪些因素在影響？應(yīng)該怎么調(diào)參數(shù)才合適？

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