一種廣泛適用的 氧化石墨烯的化學(xué)還原機理
氧化石墨烯的化學(xué)還原已經(jīng)發(fā)展了很多年,各種還原方法有幾十種,但是機理一直不清楚,文獻(xiàn)里提出的各種機理十分復(fù)雜,又不具有廣泛的適用性。
分析了各種還原方法和關(guān)于機理的論述后,小弟覺得現(xiàn)有機理解釋存在一個很大的誤區(qū)。
以水合肼還原GO為例,很容易先入為主的想要在原來環(huán)氧基的位置形成c=c,去構(gòu)建機理(圖a)。
其實,GO中每個C原子都連接了3個(或者2個)碳原子,未必會在原來的位置修復(fù)C=C雙鍵。
考慮到GO的網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu),一種更加合理的機理如下(圖c):
含氧基團的離去并不一定導(dǎo)致原位c=c的形成,而是可能導(dǎo)致鄰位六元環(huán)共軛結(jié)構(gòu)得到修復(fù)。
基于這個認(rèn)知,后續(xù)小弟想要把這個老生常談的機理問題做一做,給這個老問題一個比較完善的解答,F(xiàn)在做的還比較初級,還有很多問題需要做,歡迎大家提意見和建議。
參考文獻(xiàn):https://doi.org/10.1016/j.carbon.2020.09.049
rethinking the reaction pathways of chemical reduction of graphene oxide

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