大家好，最近本人在嘗試制備硅納米線，方法如下：
（1）硅片清洗（DI H2O，乙醇，丙酮）
（2）5% HF，90 s
（3）0.02 M AgNO3/10% HF，60 s
（4）10% HF：30% H2O2 （10：1， v%），8 min
（5）35% HNO3，10 min
試了好多遍了，硅片表面沒(méi)有一點(diǎn)變化。硅片規(guī)格：p型，100 phase，1-5 Ω cm，單面拋光。每一步都很小心，不知道為什么。
AgNO3可能有點(diǎn)問(wèn)題，在10% HF溶液中形成了大量沉淀，不知是不是因?yàn)锳g沒(méi)有在硅片表面覆蓋，所以才無(wú)法刻蝕的。
刻蝕結(jié)束后，硅片表面無(wú)任何變化，拋光的一面還是可以映出倒影來(lái)。
求有經(jīng)驗(yàn)的老師和同學(xué)指點(diǎn)迷津。 返回小木蟲(chóng)查看更多