阻抗譜法(EIS)測(cè)涂層抗腐蝕性
教一個(gè)問(wèn)題,麻煩有懂得人員幫幫忙:
實(shí)驗(yàn):在金屬片上做了個(gè)碳化物陶瓷涂層,該碳化物陶瓷涂層為聚碳硅烷裂解所得;
表征方法:采用(阻抗譜法)EIS來(lái)表征涂層的抗腐蝕性,接線方式如下圖所示;
測(cè)試結(jié)果:分別測(cè)試了“不含涂層的金屬片”和“含涂層的金屬片”的Nyquist圖中,不含涂層的金屬片的阻抗值 比 含有涂層的金屬片的阻抗值大;測(cè)試結(jié)果如下圖所示
我的問(wèn)題:含涂層保護(hù)的金屬片的阻抗值沒(méi)有道理 比 單純的金屬片的阻抗值還小呀?在這個(gè)電解質(zhì)的連線方式中,涂層和金屬片屬于串聯(lián),想不通含有涂層的金屬片的阻抗 會(huì)比 不含涂層金屬片的阻抗值小。
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