缺陷形成能VS費米能級圖的疑問
本人剛開始看缺陷態(tài)計算,有個問題想要和大家請教,缺陷形成能VS費米能級的圖中,對應(yīng)某種電荷態(tài)下費米能級不是確定的嗎?(OUTCAR里E-Fermi),在這個圖中,費米能級為什么是變化的呢?該圖要表達(dá)的意思是什么呢?本人剛開始做不太明白,希望有路過的人可以耐心講解一下,謝謝啦
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本人剛開始看缺陷態(tài)計算,有個問題想要和大家請教,缺陷形成能VS費米能級的圖中,對應(yīng)某種電荷態(tài)下費米能級不是確定的嗎?(OUTCAR里E-Fermi),在這個圖中,費米能級為什么是變化的呢?該圖要表達(dá)的意思是什么呢?本人剛開始做不太明白,希望有路過的人可以耐心講解一下,謝謝啦
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京公網(wǎng)安備 11010802022153號
在缺陷形成能的計算過程中,有一項就是從體系中拿出/放入多少電子到電子的reserva中,這個過程和費米能級的位子相關(guān)。建議你學(xué)習(xí)一下pyCDT,可與vasp對接進(jìn)行缺陷形成能等相關(guān)計算。
非常感謝您的回復(fù),我還是有疑問,例如某一種缺陷電荷態(tài)(VLi3+)其對應(yīng)的費米能量是確定的,在費米能量VS形成能的圖中應(yīng)該對應(yīng)一個點,而現(xiàn)在圖中對應(yīng)的是從價帶頂?shù)綄?dǎo)帶底(帶隙范圍)費米能量,這是為什么呢?能不能解釋的詳細(xì)一點,剛接觸實在是不懂
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"某種電荷態(tài)下費米能級不是確定的嗎"
你認(rèn)為的fermi能級確定是VASP給出的。但實際上體系的Fermi能級受到摻雜濃度的影響的。VASP計算默認(rèn)是不摻雜純凈體系(除了你引入的這個缺陷)