PDMS紫外光刻，光刻膠旋涂不均勻求助
求助各位大佬，PDMS表面如何做紫外光刻？ 現(xiàn)在遇到光刻膠旋涂不均勻的問題，不明白是什么原因。求助各位大佬指導(dǎo)，多謝了。
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京公網(wǎng)安備 11010802022153號
個人建議，可以試試這樣：PDMS表面可以進行氧氣plasma親水處理，然后再旋涂光刻膠。另外，PDMS表面平整度怎樣？會對旋涂有很大影響。
加油
PDMS粗糙度在10nm以下，粗糙度應(yīng)該沒什么問題。主要問題就是上面光刻膠根本甩不開
，
如果甩不開，可能因為樹脂與基材的親和力太強，加一點調(diào)節(jié)劑試試。
您好，目前我想在PDMS上進行光刻，但在電子束光刻中效果很差，甩了導(dǎo)電膠也完全不聚焦，不知您是否有了解，期待您的回復(fù)，打擾了