以甲烷氣源在銅/鉭襯底表面CVD沉積碳薄膜
希望利用12C同位素富集甲烷氣源在拋光后的銅或鉭襯表面沉積一層幾微米厚碳層，石墨烯、納米碳管或者普通的石墨層均可。
自備氣體，請(qǐng)問哪里可以加工，對(duì)襯底表面有什么要求，耗氣量是多少（同位素氣體比較貴）？
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我自備同位素甲烷，你那兒可以做嗎，耗氣量大概是什么水平
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