關(guān)于光刻膠選擇的問(wèn)題,請(qǐng)教一下前輩們
準(zhǔn)備制作微結(jié)構(gòu)材料,要直接用顯影后的光刻膠硅片做陰模,微結(jié)構(gòu)尺寸20微米,高度10微米,間距3微米,是用su-8還是AZ好一些呢?主要是精度要夠。
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準(zhǔn)備制作微結(jié)構(gòu)材料,要直接用顯影后的光刻膠硅片做陰模,微結(jié)構(gòu)尺寸20微米,高度10微米,間距3微米,是用su-8還是AZ好一些呢?主要是精度要夠。
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都沒(méi)問(wèn)題!AZ陡直度差點(diǎn)!
我覺(jué)得沒(méi)有問(wèn)題,深寬比也只有3!您是間距3,又不是留下來(lái)3!精準(zhǔn)控制就看工藝了
也不說(shuō)做不到,相對(duì)很難!畢竟正膠!我7u直徑22u高柱子是做過(guò)!但是同比降下來(lái)還沒(méi)試過(guò)!
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