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chennn

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氧氣氛下退個(gè)火就行了

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11樓2016-04-11 19:22:12

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芝麻大迪

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11樓: Originally posted by chennn at 2016-04-11 19:22:12
氧氣氛下退個(gè)火就行了

好，我明天試試，其他條件不變嗎？

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12樓2016-04-11 20:13:24

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楊建軍205

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【答案】應(yīng)助回帖

感謝參與，應(yīng)助指數(shù) +1

引用回帖:

10樓: Originally posted by 芝麻大迪 at 2016-04-11 18:37:18
是純Cr金屬靶，利用反應(yīng)濺射�；诇囟忍嵘先チ�，今天測(cè)出來(lái)還是非晶。。。。。不知道怎么辦了。...

小伙子，1.首先功率太小了，一般情況下，功率不上百，濺射速率會(huì)很小，很長(zhǎng)時(shí)間沉積的薄膜也很薄，所以XRD根本測(cè)不出來(lái)，非晶很正常，很大可能性就是沒(méi)有膜，而XRD顯示的是玻璃基體的衍射譜線，當(dāng)然是非晶了。不信你可以不用玻璃做基體，而改用鐵或者硅基片，我想你做出來(lái)的XRD會(huì)顯示出很好的基體的譜線。
2.所以現(xiàn)在不是結(jié)晶的問(wèn)題，也不是溫度的問(wèn)題，而是沉積速率的問(wèn)題。你首先得確定一定厚度的膜層沉積上去了，才能做XRD。
3.要有膜沉積上去，一個(gè)是提高濺射功率，一個(gè)是延長(zhǎng)沉積時(shí)間，可能同時(shí)還得控制真空度，降低氧氣的流量，否則靶材表面都氧化了，從金屬態(tài)濺射模式轉(zhuǎn)變?yōu)榉墙饘賾B(tài)轉(zhuǎn)變模式了，濺射速率會(huì)呈現(xiàn)指數(shù)量級(jí)的下降，25分鐘，幾十瓦會(huì)有膜沉積上去才怪了。
4.要觀察輝光的顏色，用最小的氧氣量，才會(huì)得到最快的濺射速率，但是氧氣少了可能就不是氧化鉻了，而是金屬鉻，這個(gè)平衡點(diǎn)得找到。
所以，加大功率，延長(zhǎng)時(shí)間，降低氧氣流量，調(diào)節(jié)真空度，首先保證有一定厚度的膜。然后再提高溫度改善結(jié)晶度，看能否得到晶粒尺寸較大的薄膜，才會(huì)有XRD衍射峰。

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13樓2016-04-11 21:24:17

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芝麻大迪

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引用回帖:

13樓: Originally posted by 楊建軍205 at 2016-04-11 21:24:17
小伙子，1.首先功率太小了，一般情況下，功率不上百，濺射速率會(huì)很小，很長(zhǎng)時(shí)間沉積的薄膜也很薄，所以XRD根本測(cè)不出來(lái)，非晶很正常，很大可能性就是沒(méi)有膜，而XRD顯示的是玻璃基體的衍射譜線，當(dāng)然是非晶了。不信 ...

haha謝謝這位熱心腸的大哥哥，我是女生

，看了你的回復(fù)對(duì)我?guī)椭艽�，我現(xiàn)在只有一個(gè)疑慮，就是不知道那個(gè)Cr靶材表面有沒(méi)有被氧化……前天在玻璃基底上做了兩個(gè)，條件是25w1h500°C氬氧比20：4和20：6，看樣子功率確實(shí)太小，博一的師哥曾經(jīng)做過(guò)氧化亞銅，最佳功率是七點(diǎn)幾瓦，然后我看過(guò)其他的文獻(xiàn)，上面的功率最大也是60w，Cr那一族元素的氧化物做RF的居多，也不知道RF除了功率之外的各項(xiàng)條件對(duì)于DC來(lái)說(shuō)適不適用。。。

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14樓2016-04-11 21:47:16

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whut_cxb

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退火試試

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15樓2016-04-11 22:01:11

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15樓: Originally posted by whut_cxb at 2016-04-11 22:01:11
退火試試

原位退火？還是把已經(jīng)濺射完成的樣品直接拿去退火呢？

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16樓2016-04-11 22:03:08

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whut_cxb

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我們以前做其他氧化物陶瓷膜的時(shí)候，也是這種現(xiàn)象，再放到爐子退火就可以了，不是原位

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17樓2016-04-12 09:28:49

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學(xué)渣求上進(jìn)

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【答案】應(yīng)助回帖

我覺(jué)地你應(yīng)該先把功率加大，個(gè)人認(rèn)為功率對(duì)薄膜的結(jié)晶性影響比較大。我用金屬Y靶，也是直流濺射。測(cè)完發(fā)現(xiàn)功率在80W時(shí)都沒(méi)有結(jié)晶，到90W才開(kāi)始有一點(diǎn)衍射峰，你可以試試

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18樓2016-04-19 16:41:39

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