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小木蟲論壇-學術(shù)科研互動平臺 » 材料區(qū) » 微米和納米 » 微納加工 » 光刻時遇到的問題
| 查看: 2474 | 回復: 13 | ||||
百無二用新蟲 (小有名氣)
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11樓2019-05-21 22:44:05
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babyoflion金蟲 (著名寫手)
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12樓2019-07-10 09:32:30
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13樓2019-07-10 14:14:32
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yswyx
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回復此樓
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專家經(jīng)驗: +651 |
【答案】應助回帖
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有機溶劑的清洗往往很難解決光刻版上的沾污。因為在多次使用后，光刻版上粘的光刻膠會發(fā)生交聯(lián)等反應，用有機溶劑進行超聲是很難清洗干凈的，所以樓上的回答是錯誤的。只有在掩模版的精度很差，清洗的潔凈度要求很低的情況下，才適合有機溶劑清洗。 一般來說，標準的清洗，是使用堿性溶液，比如KOH，但由于堿金屬離子沾污的困擾，也可以換成有機堿溶液（TMAH，注意接觸安全）。實驗室條件下，也可以用3號液，濃硫酸+雙氧水煮沸清洗，會非常干凈。這種酸液也可以用高錳酸鉀+高猛酸類的強氧化溶液取代。 而對于工業(yè)領(lǐng)域，則需要用3號液和超聲或兆聲清洗來完成。 |
14樓2019-07-16 15:00:36
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