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[交流]
介孔硅的XRD表征出現(xiàn)這樣的圖譜為什么 已有10人參與
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照著文獻(xiàn)中的方法，用陰離子表面活性劑為模板合成的介孔硅，在0.5度-10度進(jìn)行XRD表征 ，結(jié)果出現(xiàn)的圖譜和文獻(xiàn)中說的在1度-2度出現(xiàn)一個較寬的峰不同，而是沒有出現(xiàn)峰，直接在0,5度開始呈逐漸減低的趨勢，這是為什么？難道做的介孔硅沒成功，只是一些顆粒么？附圖如下，求解惑。 QQ圖片20160111174646.png |
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10樓2016-11-19 11:30:38
zyhou
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2樓2016-01-11 18:27:57
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小木蟲: 金幣+0.5, 給個紅包，謝謝回帖
wonderfulong: 金幣+1, 謝謝應(yīng)助，歡迎常來交流！ 2016-01-11 22:46:17
小木蟲: 金幣+0.5, 給個紅包，謝謝回帖
wonderfulong: 金幣+1, 謝謝應(yīng)助，歡迎常來交流！ 2016-01-11 22:46:17
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如果與文獻(xiàn)相比，XRD表征結(jié)果比較差，那肯定是合成過程中出現(xiàn)問題了！ 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
3樓2016-01-11 19:03:52
sqzhao
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4樓2016-01-11 21:03:20
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