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[交流]
介孔硅的XRD表征出現(xiàn)這樣的圖譜為什么 已有10人參與
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照著文獻(xiàn)中的方法,用陰離子表面活性劑為模板合成的介孔硅,在0.5度-10度進行XRD表征 ,結(jié)果出現(xiàn)的圖譜和文獻(xiàn)中說的在1度-2度出現(xiàn)一個較寬的峰不同,而是沒有出現(xiàn)峰,直接在0,5度開始呈逐漸減低的趨勢,這是為什么?難道做的介孔硅沒成功,只是一些顆粒么?附圖如下,求解惑。 QQ圖片20160111174646.png |
專家顧問 (文壇精英)
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如果與文獻(xiàn)相比,XRD表征結(jié)果比較差,那肯定是合成過程中出現(xiàn)問題了! 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
鐵桿木蟲 (著名寫手)

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把步長調(diào)到最小試一下,如果還是這樣那就是樣品的問題, 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |

木蟲 (小有名氣)

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