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1樓 2012-04-11 18:02:27

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白色粉末的出現(xiàn)，說明你的試驗(yàn)沒有實(shí)現(xiàn)ALD生長
一種原因是發(fā)生了CVD效應(yīng)，也有可能是你的沉積溫度過高，前趨體分解了吧！不清楚你用的是哪家的設(shè)備，有些設(shè)備沉積也略有區(qū)別，我們完全可以實(shí)現(xiàn)HfO2的沉積，有問題可以多交流！

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yzdelei

2樓2012-04-26 09:42:40

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【答案】應(yīng)助回帖

引用回帖:

7樓: Originally posted by yzdelei at 2012-05-01 10:14:35:
最近白色的現(xiàn)象沒了，但是薄膜不均勻，不知道什么原因，要是ALD生長的話，硅片背面也應(yīng)該有顏色變化的，現(xiàn)在達(dá)不到這種狀態(tài)啊，拜求原因

你是突然出現(xiàn)白色的粉末狀東西？
還是好久不用系統(tǒng)，然后一開始用就有了？

而且這個(gè)影響因素太多了，你能說說實(shí)驗(yàn)條件么？

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yzdelei

8樓2012-05-01 10:29:23

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【答案】應(yīng)助回帖

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感謝參與，應(yīng)助指數(shù) +1
yzdelei: 金幣+15, ★★★很有幫助, 非常感謝，有點(diǎn)疑惑就是，壓力高應(yīng)該更容易purge吧 2012-04-30 06:49:24

1.purecursor pulse 時(shí)間過長，且purge時(shí)間不足，不是inert gas用光了吧
2.precursor 溫度過高，precursor大量物理吸附，這樣inert沒法purge的
3.使用不善，造成管路里面殘留大量precursor
4.系統(tǒng)壓力過高
還有TDEAH用moisture就能反應(yīng)，問什么用h2o2呢？
這個(gè)precursor， 200度1.2的growthrate非常經(jīng)典，應(yīng)該不難實(shí)現(xiàn)

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3樓2012-04-29 13:54:35

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【答案】應(yīng)助回帖

引用回帖:

3樓: Originally posted by super_zu at 2012-04-29 13:54:35:
1.purecursor pulse 時(shí)間過長，且purge時(shí)間不足，不是inert gas用光了吧
2.precursor 溫度過高，precursor大量物理吸附，這樣inert沒法purge的
3.使用不善，造成管路里面殘留大量precursor
4.系統(tǒng)壓力過高
還 ...

是precursor過多，引起的壓力升高。

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5樓2012-04-30 07:19:55

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引用回帖:

5樓: Originally posted by super_zu at 2012-04-30 07:19:55:
是precursor過多，引起的壓力升高。

你是突然出現(xiàn)白色的粉末狀東西？
還是好久不用系統(tǒng)，然后一開始用就有了？

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★ ★ ★ ★ ★
yzdelei: 金幣+5, ★有幫助 2012-05-02 08:45:33

你可以這樣解決，斷開源與系統(tǒng)，precursor pulse 設(shè)為0s，高溫bake chamber，加熱precursor delivery line，做500cycles。這樣應(yīng)該可以解決了。

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10樓2012-05-02 01:33:57

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