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SunShine-91木蟲 (正式寫手)
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| During the heating process, small holes in silica network sealed because of structural adjustment, thus the oxidation stopped at lower temperature compared with the pristine UFDs in Fig. 3. |
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【答案】應助回帖
★ ★ ★ ★ ★
SunShine-91: 金幣+5, 翻譯EPI+1, ★★★★★最佳答案 2015-06-24 08:27:13
SunShine-91: 金幣+5, 翻譯EPI+1, ★★★★★最佳答案 2015-06-24 08:27:13
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Oxidation應該是指silica還是什么的反應吧，所以將oxidation直接與pristine UFDs相比不合適，需要具體說明才好： During the heating process, small holes in silica network sealed because of structural adjustment, thus the oxidation （of silica network? 可以略去） stopped at lower temperature compared with that OF the pristine UFDs in Fig. 3. |
2樓2015-06-23 21:29:56
SunShine-91
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謝謝你， 我想問你這樣用可以不：During the heating process, small holes in silica network sealed because of structural adjustment. Thus, the oxidation stopped at lower temperature compared with the pristine UFDs. 下面這句我覺得the TEOS amount of 這樣用不對，該怎么改好呢？ Fig. 2 shows the TEM images of samples 1, 2 and 3, with silica shell thicknesses of 10 nm, 20 nm and 50 nm, which were synthesized by adding the TEOS amount of 0.15 ml, 0.4 ml and 1.5 ml, respectively. |
3樓2015-06-23 22:02:59
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【答案】應助回帖
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前面一句我還是認為比較前后的對象不一致。后半句完整的說法應該是： Thus, the oxidation of xx stopped at lower temperature compared with the oxidation of pristine UFDs. （也許我沒完全吃透你的東西，你在琢磨一下） 第二句可以嘗試： Fig. 2 shows the TEM images of samples 1, 2 and 3, with silica shell thicknesses of 10 nm, 20 nm and 50 nm, which were synthesized by adding 0.15, 0.4 and 1.5 ml of TEOS, respectively. |
4樓2015-06-23 22:11:45
SunShine-91
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5樓2015-06-24 08:28:30
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