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XSM815498719鐵蟲 (小有名氣)
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[求助]
有關(guān)PVD制備薄膜的沉積機(jī)理的兩三個(gè)問題
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以電弧離子鍍?yōu)槔捎谄珘旱募铀僮饔,沉積粒子會(huì)轟擊到基材表面,從而形成薄膜,這個(gè)過程中小弟有三個(gè)疑惑麻煩大家?guī)兔忉屜拢?br />
1. 在沉積的過程會(huì)通入Ar氣,并使其離化成Al+, 那么Al+應(yīng)該也受偏壓的作用朝基材轟擊,那么為什么涂層上檢測不到Ar的存在,最后轟擊到基材的Al是以什么形式存在。 2. 以沉積TiN為例,通入的N2會(huì)電離成N負(fù)離子,此時(shí)負(fù)偏壓會(huì)吸引Ti離子而排斥N負(fù)離子朝基材運(yùn)動(dòng),那么最終在基材上的TiN是怎么生成的。 3. 如上所說的沉積離子大多帶電荷,在沉積到基材后,這些電荷是怎么被中和掉的,特別是當(dāng)基材為絕緣體時(shí)(如玻璃) |

鐵蟲 (小有名氣)

木蟲 (著名寫手)
新蟲 (小有名氣)
新蟲 (小有名氣)
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沉積粒子應(yīng)該是大多不帶電,沉積基材后,會(huì)電荷積累,大約有幾伏至十幾伏電壓,會(huì)通過等離子體導(dǎo)電中和部分電荷,純屬個(gè)人觀點(diǎn)。 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
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