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XSM815498719鐵蟲 (小有名氣)
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有關PVD制備薄膜的沉積機理的兩三個問題
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以電弧離子鍍?yōu)槔捎谄珘旱募铀僮饔,沉積粒子會轟擊到基材表面,從而形成薄膜,這個過程中小弟有三個疑惑麻煩大家?guī)兔忉屜拢?br />
1. 在沉積的過程會通入Ar氣,并使其離化成Al+, 那么Al+應該也受偏壓的作用朝基材轟擊,那么為什么涂層上檢測不到Ar的存在,最后轟擊到基材的Al是以什么形式存在。 2. 以沉積TiN為例,通入的N2會電離成N負離子,此時負偏壓會吸引Ti離子而排斥N負離子朝基材運動,那么最終在基材上的TiN是怎么生成的。 3. 如上所說的沉積離子大多帶電荷,在沉積到基材后,這些電荷是怎么被中和掉的,特別是當基材為絕緣體時(如玻璃) |

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