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XSM815498719鐵蟲 (小有名氣)
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有關PVD制備薄膜的沉積機理的兩三個問題
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以電弧離子鍍?yōu)槔捎谄珘旱募铀僮饔�，沉積粒子會轟擊到基材表面，從而形成薄膜，這個過程中小弟有三個疑惑麻煩大家?guī)兔忉屜拢?br />
1. 在沉積的過程會通入Ar氣，并使其離化成Al+, 那么Al+應該也受偏壓的作用朝基材轟擊，那么為什么涂層上檢測不到Ar的存在，最后轟擊到基材的Al是以什么形式存在。 2. 以沉積TiN為例，通入的N2會電離成N負離子，此時負偏壓會吸引Ti離子而排斥N負離子朝基材運動，那么最終在基材上的TiN是怎么生成的。 3. 如上所說的沉積離子大多帶電荷，在沉積到基材后，這些電荷是怎么被中和掉的，特別是當基材為絕緣體時（如玻璃） |
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