最近在調(diào)研氧氣在固體（硅）表面的吸附問題（主要調(diào)研吸附量~真空度的關(guān)系，也就是想說明在10-6~10-7 Torr左右表面還有氧氣吸附，最好有吸附公式）。
1. 文獻(xiàn)中多有提到曝氧量概念，英文一般為oxygen exposure，單位是 Langmuir (1 L = 1 X 10-6 Torr s). 搞不明白，曝氧量與真空度的關(guān)系是什么呢？
2. 有沒有氧氣在硅上吸附量~真空度的關(guān)系式（吸附公式）？其他固體也可以吧。附個文獻(xiàn)。

本求助截止于2012.2.23晚9點(diǎn)~~~~~~
望高人指點(diǎn)。

[ Last edited by 明光 on 2012-2-20 at 09:23 ] 返回小木蟲查看更多