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明光木蟲 (著名寫手)
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[求助]
曝氧量~真空度、氧氣吸附、吸附公式等問題
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最近在調(diào)研氧氣在固體（硅）表面的吸附問題（主要調(diào)研吸附量~真空度的關(guān)系，也就是想說明在10-6~10-7 Torr左右表面還有氧氣吸附，最好有吸附公式）。 1. 文獻(xiàn)中多有提到曝氧量概念，英文一般為oxygen exposure，單位是 Langmuir (1 L = 1 X 10-6 Torr s). 搞不明白，曝氧量與真空度的關(guān)系是什么呢？ 2. 有沒有氧氣在硅上吸附量~真空度的關(guān)系式（吸附公式）？其他固體也可以吧。附個(gè)文獻(xiàn)。  本求助截止于2012.2.23晚9點(diǎn)~~~~~~望高人指點(diǎn)。 [ Last edited by 明光 on 2012-2-20 at 09:23 ] |
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明光
木蟲 (著名寫手)
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- 專業(yè): 微/納機(jī)械系統(tǒng)
2樓2012-02-21 16:37:36
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