原子層沉積制備氧化物薄膜
我主要用原子層沉積（ALD）制備氧化物，比如氧化鋁、氧化鉿、氧化鋯、氧化鈦、氮化鈦；最近在給一家公司做技術(shù)服務(wù)的時(shí)候，發(fā)現(xiàn)生長樣品氧化鋁粗糙度0.3nm，但是氧化鉿，氧化鋯的有2nm，可能是什么原因？可以點(diǎn)我頭像具體技術(shù)交流，謝謝
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京公網(wǎng)安備 11010802022153號(hào)
贍苊揮型耆韻尬劍憧梢允允猿rO2的時(shí)候，吸附時(shí)間長一些，以及劑量給多一些 。O源也可以適當(dāng)增加，
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