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[求助]
激光熔覆所用半導體激光器功率密度不夠大,求解決辦法 已有1人參與
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要做激光熔覆非晶涂層,設備功率6500W是滿足要求的。但是由于光斑直徑5mm,導致功率密度在10^4數量級,而做非晶涂層要達到10^5甚至10^6數量級,有沒有解決辦法還是及早放棄轉其他課題。。。。。。。新人第一次發(fā) 是這樣發(fā)的吧 |
金蟲 (小有名氣)
木蟲 (正式寫手)
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