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FLYFWY木蟲 (小有名氣)
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[求助]
Al靶問題 已有1人參與
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磁控濺射Al靶用完成這樣了。鍍的過程局部輝光很亮。 想確認(rèn)一下是不是以下兩個(gè)原因造成： 1.功率過大（6A），導(dǎo)致打火 2.磁場不均勻，導(dǎo)致局部濺射太厲害 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |
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凹槽不均勻就是磁場不均勻引起的。功率大不大不能單獨(dú)的說，和靶材面積有關(guān)，所以應(yīng)該看功率密度，這也反應(yīng)到鍍率，我覺得如果鍍率在15a/s以下應(yīng)該都沒有問題的。另外靶材的散熱好不好，這可以通過靶材冷卻水的回水溫度大概判定，如果回水溫度明顯比進(jìn)水溫度高，就表明散熱還好。散熱不好得話會(huì)引起靶材變形 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
2樓2016-04-08 09:22:55
FLYFWY
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3樓2016-04-11 11:16:45
vincentwz
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【答案】應(yīng)助回帖
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功率密度還好。你這個(gè)散熱的問題很大，散熱不好導(dǎo)致靶材局部受熱變形，同時(shí)也造成磁鋼的磁性不均勻，磁場又反過來影響靶材的均勻性。 所以首先換掉銅板，保證銅板和靶材背面平整，然后涂一些真空用的導(dǎo)熱硅脂在靶材背面，保證靶材和銅板之間的良好接觸和熱傳導(dǎo)，我估計(jì)這能解決很大問題 另外好奇，這么大的濺射靶材，你這是用在哪方面的？ |
4樓2016-04-11 11:42:36
匿名
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5樓2016-04-11 12:02:54
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6樓2017-03-23 23:54:41
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