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guyingbing金蟲 (正式寫手)
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[求助]
水熱法在基底上生長(zhǎng)晶體,正反兩面不一樣
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我現(xiàn)在研一,我現(xiàn)在工作是用水熱法在基底上生長(zhǎng)晶體。我可以較好的生長(zhǎng)出晶體,但是我發(fā)現(xiàn)基底的正反兩面生長(zhǎng)有較大的差異。正面由于有沉淀覆蓋,所以晶體生長(zhǎng)不均勻,生長(zhǎng)不牢。但是背面生長(zhǎng)就很均勻。我考慮可能是沉淀過(guò)多的原因,所以我降低了溶液的濃度,同樣的反應(yīng)時(shí)間,有晶體生長(zhǎng)但是生長(zhǎng)得少,后來(lái)我又延長(zhǎng)了反應(yīng)時(shí)間,可這是候卻發(fā)現(xiàn)晶體生長(zhǎng)反而更少了。所以在這里我想請(qǐng)教一下各位老師,有沒有辦法將基底正反兩面生長(zhǎng)均一,一致。 @jackdeng @lich666 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |

銅蟲 (正式寫手)
金蟲 (正式寫手)

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