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faintchang金蟲 (正式寫手)
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[求助]
HF去除3C-SiC表面SiO2 已有1人參與
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| 3C-SiC襯底表面存在2nm左右的自然氧化層SiO2，參考清洗Si片的方法——使用10%的HF浸泡3C-SiC（時(shí)間從2min到24h不等），最終測(cè)試發(fā)現(xiàn)SiC襯底表面的氧化層完全沒有反應(yīng)，厚度跟處理之前一樣的。請(qǐng)問一下是HF的濃度需要調(diào)整嗎？還是清洗過程中需要加熱？超聲？之類的操作？ |
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tsung
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2樓2016-04-20 10:13:14
3樓2016-04-20 11:03:34
faintchang
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4樓2016-04-21 08:37:09
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5樓2016-04-21 08:38:28
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