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biking金蟲 (正式寫手)
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[求助]
物理方法鍍膜求助 已有2人參與
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各位好: 我目前有一碳化物,現(xiàn)在想要通過物理方法將該碳化物沉積到Si基底上面,要求是在不改變碳化物化學(xué)結(jié)構(gòu)的前提下,沉積到基底表面。 請教各位有什么較好的方法? 我目前了解的有真空蒸發(fā)和濺射沉積,但是有些疑問,這兩種方法好像都是把分子蒸發(fā)成了離子或原子,那這樣再沉積到基底表面時候會不會改變分子的結(jié)構(gòu)呢?? 對膜技術(shù)不是很了解,有說辭不當(dāng)?shù)牡胤骄凑堈徑? |
至尊木蟲 (著名寫手)
金蟲 (正式寫手)
至尊木蟲 (著名寫手)
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鍵合技術(shù)是應(yīng)用在襯底轉(zhuǎn)移領(lǐng)域,把生長在一種襯底上的薄膜轉(zhuǎn)移到另一種襯底上。轉(zhuǎn)移的方法是在薄膜表面和待轉(zhuǎn)移襯底表面都鍍金屬(鍵合專用)然后將兩者貼在一起放進(jìn)儀器中,施加很大的壓力,在高溫環(huán)境下,兩者接觸的界面的原子會相互擴(kuò)散,就達(dá)到了鍵合的目的,最后再將原來的襯底去掉(你的實驗若采用此辦法則可省略最后一步) 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |
金蟲 (正式寫手)
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