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為什么吸附Cl-后,通過Mott-Schottky Pair 反應(yīng)產(chǎn)生氧空缺/金屬離子空缺對?
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依據(jù)PDM模型[15](點缺陷模型),鈍化膜中的各種高濃 度的點缺陷形式,如金屬空缺(Vx″O)和氧空缺(VO″)等處于穩(wěn) 態(tài)的鈍化膜,金屬基體/膜界面鈍化膜的生長與膜/電解液界 面鈍化膜的溶解存在一種動態(tài)平衡.當(dāng)鈍化膜處于含有侵蝕 性離子(如Cl-)溶液中,膜/電解液界面的氧空缺可吸附Cl- 并與其通過Mott-Schottky Pair反應(yīng)產(chǎn)生氧空缺/金屬離子空 缺對,生成的氧空缺又可以與膜/溶液界面其他的Cl-繼續(xù) 反應(yīng),產(chǎn)生更多的金屬離子空缺(見圖4).因此金屬離子的產(chǎn) 生過程是自催化過程,多余的金屬離子空缺在金屬基體/膜 界面局部堆積,將金屬基體與鈍化膜隔離,阻止了鈍化膜的 繼續(xù)生長.這樣鈍化膜的動態(tài)平衡遭受破壞,只溶解而不再 繼續(xù)生長 |
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