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[交流]
如何生長2nm左右的金屬膜?
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請問熟悉半導(dǎo)體工藝方面的大神,用什么設(shè)備能長1-2nm的金屬膜(金膜 或者銀膜),聽說磁控濺射可以,國內(nèi)哪里可以做,精度度如何?同時(shí)這么薄的膜用什么測試儀器能夠較為準(zhǔn)確的測試? 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
薄膜制備與特性 |
鐵桿木蟲 (知名作家)
新蟲 (小有名氣)
新蟲 (著名寫手)
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磁控濺射做2nm 薄膜, 這個(gè)非常難控制,還要看是什么金屬。誤差也比較大。 對于小基片有可能,對于大基片估計(jì)比較難。你可以找同濟(jì)大學(xué)試試 1) 你的硅片基底的拋光 要做的非常高 ,估計(jì)在幾個(gè)埃的水平 2) 沉積的速率要非常的慢,同時(shí)要束縛等離子和調(diào)控 估計(jì)銀膜 比較難, 金膜是否有可能不太了解 。其他Ti 或鉻 或許有可能。 測量方式: 最好的原位測試。 如果你鍍完基片,在空氣中暴露幾分鐘,測量誤差可能就不止2nm |
新蟲 (小有名氣)
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最近在做一臺厚度5-20納米的磁場輔助濺射設(shè)備,理論上講應(yīng)該可以,實(shí)際操作有困難。主要思路,采用磁場輔助的濺射沉積(不是真正的磁控濺射),外加掩膜控制濺射區(qū)域。 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
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