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射頻磁控濺射鍍sio2相關(guān)問題 已有1人參與
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sio2還沒鍍過,打算近期開始做,有幾個疑問。 1.打算用的參數(shù)功率用110w,氬氣1pa,靶基距固定是10cm,不知道功率參數(shù)選的是否合理,個人感覺不同設(shè)備參數(shù)會有所區(qū)別 2.關(guān)心三點(diǎn)問題,一能否沉積,二鍍兩三個小時會不會容易出現(xiàn)裂靶情況,三沉積速率會達(dá)到多少呢? 新手請大家多多指教,謝謝! @hwweven 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |
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1.參數(shù)設(shè)置可以,肯定能鍍上,最佳參數(shù)需要摸索。2.靶材是sio2靶材?很有可能會裂。 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
金蟲 (小有名氣)
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